解決方案
RPD靶材/蒸鍍材料
主要靶材：Cu、Ti、Al、RPD材料、Yb、Ni、Ag、ITO、ZrO2、H4
能夠沉積高純度、高均勻性、致密穩(wěn)定的膜層，實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)及機(jī)械性能。高性能靶材在薄膜制備過程中保證材料的一致性和穩(wěn)定性，為平板顯示、光學(xué)、光伏、半導(dǎo)體、功能薄膜等領(lǐng)域提供可靠的材料基礎(chǔ)。
1. RPD靶材應(yīng)用
靶材在RPD工藝中用于高精度薄膜沉積，可實(shí)現(xiàn)低電阻、高透過率及高均勻性的膜層，滿足大面積顯示、觸控屏及光學(xué)器件的嚴(yán)格性能要求。同時，高穩(wěn)定性靶材可支持大規(guī)模量產(chǎn)和重復(fù)加工，提高生產(chǎn)效率。
2. 蒸鍍材料應(yīng)用
靶材可用于物理氣相沉積（PVD）或真空蒸鍍工藝，制備光學(xué)薄膜、導(dǎo)電膜及功能膜層。高純度、高致密度靶材保證膜層均勻性、附著力和化學(xué)穩(wěn)定性，廣泛應(yīng)用于顯示面板、太陽能電池、光學(xué)器件、功能玻璃及裝飾鍍膜等高端領(lǐng)域。
重要作用
提高膜層均勻性與功能性能
提升光學(xué)、電學(xué)及機(jī)械性能，滿足高端應(yīng)用需求
保證材料一致性與大規(guī)模生產(chǎn)穩(wěn)定性
