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主要靶材：Si、 SiB、 SiO2、 Nb、 Nb2OX、 Ti、 TiOX、 Al、 Cr、 Zr、 Hf、 Ta、 Ge

蒸鍍材料：MgF2、 Nb2O5、 Al2O3、 Ta2O5、 HfO2、Ti3O5、 SiO2/AI2O3、 H4、 YbF3、 SiO2、 TiO2、 ZrO2

以上靶材是光學(xué)薄膜沉積的關(guān)鍵材料，可為各類光學(xué)元件提供高均勻性、高致密度及穩(wěn)定性膜層，在光學(xué)增透鍍膜、光通信鍍膜及光學(xué)玻璃鍍膜等多個(gè)細(xì)分領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。

1. 光學(xué)增透鍍膜

高純度靶材沉積的薄膜可有效降低表面反射、提高透光率，廣泛應(yīng)用于鏡頭、攝像頭、顯示器及光伏玻璃等器件，顯著改善成像質(zhì)量與光能利用效率。

2. 光通信鍍膜

靶材沉積的低損耗、高穩(wěn)定性薄膜適用于光纖、波導(dǎo)及濾波器等光通信元件，提升信號(hào)傳輸效率和系統(tǒng)可靠性，滿足高速、大容量通信需求。

3. 光學(xué)玻璃鍍膜

靶材用于光學(xué)玻璃的增透、防反射、防刮擦及濾光膜層制備，不僅提升玻璃光學(xué)性能和耐久性，還可實(shí)現(xiàn)防紫外、減反射、耐腐蝕等功能，適用于科研、醫(yī)療和消費(fèi)電子等場(chǎng)景。