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鈮靶材(Nb)

Nb target

眾誠達(dá)

金屬靶材

鈮靶材(Nb)

高密度
低電阻
薄膜空穴遷移率高
高光學(xué)透過率

產(chǎn)品介紹

鈮靶材是由高純度鈮金屬(純度>99.95%)加工而成。鈮靶材的核心原料鈮是一種銀灰色的、稀有的、質(zhì)地較軟且具有延展性的過渡金屬,鈮靶材具備高熔點(diǎn)(2468°C)、優(yōu)異耐腐蝕性(常溫下耐強(qiáng)酸/堿腐蝕速率<0.01mm/年)和良好的導(dǎo)電性。
鈮靶材最終純度可達(dá)99.95%以上,晶粒尺寸小,再結(jié)晶組織好,三軸一致性好。作為陰極濺射靶材,鈮靶材所形成的氧化膜質(zhì)量均勻不會(huì)與空氣中的其他物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),具有持久的保護(hù)作用,是高端鍍膜領(lǐng)域的優(yōu)質(zhì)選擇。


鈮靶材的優(yōu)異特性

  • 高密度,作低電阻晶粒細(xì)小

    鈮靶材高密度且晶粒細(xì)小、電阻低,保障鈮靶材濺射性能穩(wěn)定,為制備高品質(zhì)薄膜奠定基礎(chǔ),適配高精度鍍膜需求。
  • 薄膜空穴遷移率高,高光學(xué)透過率,界面匹配優(yōu)異

    鈮靶材制備的薄膜空穴遷移率高,且具備高光學(xué)透過率、優(yōu)異的界面匹配性,凸顯鈮靶材在光學(xué)、電子領(lǐng)域的核心優(yōu)勢。
  • 非金屬雜質(zhì)(C,N,O),含量少

    鈮靶材非金屬雜質(zhì)(C,N,O)含量極少,進(jìn)一步提升鈮靶材純度,確保鈮靶材濺射薄膜無雜質(zhì)干擾、性能穩(wěn)定。


鈮靶材的廣泛應(yīng)用

  1. 半導(dǎo)體制造

    鈮靶材在芯片制造中扮演著關(guān)鍵角色--通過磁控濺射工藝,鈮靶材能在硅片上沉積出僅200納米厚的鈮薄膜。這種超薄鍍層能有效提升集成電路的導(dǎo)電性和耐腐蝕性,鈮靶材是5G芯片和存儲(chǔ)器的核心材料之一。

  2. 光學(xué)器件制造

    當(dāng)鈮靶材遇上光學(xué)鍍膜技術(shù),會(huì)產(chǎn)生奇妙的化學(xué)反應(yīng):相機(jī)鏡頭鍍膜,鈮靶材可提升透光率至99.7%;AR眼鏡鍍層,鈮靶材可實(shí)現(xiàn)光線選擇性透過;激光反射鏡,鈮靶材可使器件耐高溫達(dá)1800°C。這些特性使得從智能手機(jī)攝像頭到天文望遠(yuǎn)鏡,都離不開鈮靶材的貢獻(xiàn)。

  3. 裝飾鍍膜

    鈮靶材在裝飾鍍領(lǐng)域因其獨(dú)特的色彩可調(diào)性和優(yōu)異性能而備受青睞。通過陽極氧化或磁控濺射工藝,鈮靶材制備的鈮鍍層可呈現(xiàn)藍(lán)、紫、金等豐富色彩,同時(shí)具備耐腐蝕、高硬度和生物相容性,鈮靶材廣泛應(yīng)用于高端手表、珠寶、電子產(chǎn)品及醫(yī)療美容器械的裝飾鍍層。

技術(shù)特性

  • 純度

    純度

    99.95%

  • 密度

    密度

    噴涂鈮靶材:密度:>8g/cm³,熔煉鈮靶材:8.57g/cm³

應(yīng)用場景

  • 半導(dǎo)體制造

    半導(dǎo)體制造

  • 光學(xué)器件制造

    光學(xué)器件制造

  • 裝飾鍍膜

    裝飾鍍膜

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