產(chǎn)品介紹
鉬靶材的優(yōu)異特性
超高純度
鉬靶材通常具備≥99.95% 的高純度，部分甚至可達 5N 級（99.999%）。其極低的雜質(zhì)含量，如鐵、鎳等雜質(zhì)＜50ppm，氧含量＜200ppm，有力保障了濺射薄膜的電學性能穩(wěn)定，為對精度和性能要求嚴苛的應用場景，如半導體芯片制造，奠定了堅實基礎，彰顯鉬靶材的核心品質(zhì)優(yōu)勢，是高端鍍膜的核心前提。
耐高溫氧化
鉬靶材擁有 2623℃的超高熔點，在 1000℃空氣中氧化增重＜0.1mg/cm2（100 小時）。以某光伏企業(yè)為例，使用鉬靶材制備 TCO 膜，經(jīng) 85℃/85% RH 環(huán)境測試 500 小時無失效，充分彰顯其在高溫及復雜環(huán)境下的卓越穩(wěn)定性，延長鉬靶材及終端產(chǎn)品的服役周期，凸顯其耐溫優(yōu)勢。
精密結(jié)構(gòu)與良好導電性
鉬靶材密度：10.28g/cm3（理論值 99%），晶粒尺寸＜50μm，平面度≤0.05mm（Φ100mm 靶材）。高純度鉬靶材的良好導電性（電阻率 5.2μΩ?cm），確保其在濺射過程中能高效傳輸電流，提升濺射效率，同時其精密的結(jié)構(gòu)設計適配高精度濺射設備，保障鍍膜的精準性與均勻性，適配規(guī)模化、高精度生產(chǎn)需求，拓展鉬靶材的應用范圍。
鉬靶材的應用
半導體行業(yè)
鉬靶材在半導體工業(yè)中用于制備金屬硅片的底部電極，可提供穩(wěn)定的電流保證硅片質(zhì)量，成為半導體制造不可或缺的關鍵材料，助力半導體產(chǎn)業(yè)高端化發(fā)展，是半導體領域核心鉬靶材應用場景。
顯示面板
鉬靶材在液晶顯示器(LCD)中用于提升亮度、對比度、色彩和壽命，適配高端顯示面板制造需求，凸顯其在顯示領域的核心優(yōu)勢，是高端顯示面板制造的關鍵鉬靶材。
光伏行業(yè)
鉬靶材用于太陽能電池的制造，作為電極材料，可提高電池的轉(zhuǎn)換效率，助力光伏產(chǎn)業(yè)高效升級，拓展其新能源應用場景，成為光伏高效生產(chǎn)的核心鉬靶材。
低輻射玻璃
鉬靶材用于STN/TN/TFT-LCD、低輻玻璃等的制造，適用于各種鍍膜系統(tǒng)，進一步拓寬其應用范圍，適配建筑、顯示等多領域需求，彰顯鉬靶材的多場景適配優(yōu)勢。
技術特性
純度
99.95%-99.999%
密度
10.28g/cm
電阻率
0℃時為5.17×-10Ω·cm；800℃時為24.6×-10Ω·cm；2400℃時為72×-10Ω·cm
應用場景
半導體制造
顯示面板
光伏行業(yè)
低輻射玻璃
聯(lián)系我們
