產(chǎn)品介紹
鐿靶材的優(yōu)異特性
高純度、低雜質(zhì)
鐿靶材采用高純稀土鐿冶煉,雜質(zhì)含量極低,能顯著減少膜層顆粒和針孔,提高鐿靶材濺射薄膜的致密性、均勻性和穩(wěn)定性,滿足高端鍍膜的嚴(yán)苛要求。
高致密度與均勻性
鐿靶材組織細(xì)膩,密度高,濺射時穩(wěn)定性好,膜層厚度更均勻,凸顯鐿靶材的濺射工藝優(yōu)勢,適配規(guī)?;?、高精度鍍膜生產(chǎn)需求。
良好的延展性和加工性
鐿靶材的核心原料鐿金屬柔軟、延展性佳,可輕松加工成不同規(guī)格和形狀(圓靶、矩形靶、環(huán)形靶),滿足多種設(shè)備需求,提升鐿靶材的適配性。
優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性
鐿靶材在高真空、高溫濺射條件下不易與工作氣體或基材反應(yīng),有助于獲得性能穩(wěn)定、純凈度高的膜層,延長鐿靶材使用壽命和膜層服役周期。
稀土獨特光電磁特性
鐿靶材中的鐿元素可為薄膜引入特殊光學(xué)、電學(xué)或磁學(xué)特性,使鐿靶材制備的薄膜具備差異化功能,提升終端產(chǎn)品附加值,彰顯鐿靶材的獨特優(yōu)勢。
鐿靶材的廣泛應(yīng)用
集成電路與半導(dǎo)體領(lǐng)域
接觸層和阻擋層:在先進(jìn)的半導(dǎo)體芯片(如邏輯芯片和存儲器)中,當(dāng)晶體管尺寸縮小到納米級別時,傳統(tǒng)的硅化物接觸已無法滿足低電阻的要求。鐿靶材中的鐿金屬具有較低的功函數(shù),鐿靶材制備的鐿薄膜可以作為N型晶體管的歐姆接觸層,有效降低源極和漏極與溝道之間的接觸電阻,從而提升器件性能和運行速度,鐿靶材成為半導(dǎo)體高端制程的關(guān)鍵材料。
有機發(fā)光二極管
鐿靶材中的鐿的功函數(shù)與OLED有機材料的LUMO能級匹配良好。因此,鐿靶材制備的鐿薄膜常被用作OLED器件的電子注入層或陰極。鐿靶材可以有效地將電子注入到有機發(fā)光層中,提高電光轉(zhuǎn)換效率,降低器件的工作電壓。相比于一些活潑金屬(如鈣),鐿靶材中的鐿在大氣中相對更穩(wěn)定,有利于延長器件壽命。
太陽能電池
在鈣鈦礦太陽能電池等新型光伏器件中,鐿靶材制備的鐿薄膜同樣可以作為有效的電子傳輸層或電極界面修飾層,幫助提取電子,提升電池的開路電壓和填充因子,最終提高光電轉(zhuǎn)換效率,助力光伏產(chǎn)業(yè)高效發(fā)展。
裝飾與功能涂層
金屬鐿本身呈銀白色略帶淡黃光澤。通過濺射鐿靶材,可以在眼鏡框、手表、手機外殼等消費品表面沉積出具有特殊金屬質(zhì)感和顏色的薄膜,兼具美觀和耐磨耐腐蝕的功能,拓展鐿靶材的應(yīng)用場景。
技術(shù)特性

純度
99.9%-99.99%

相對密度
≥99%
應(yīng)用場景
聯(lián)系我們






