產(chǎn)品介紹
專業(yè)供應(yīng)鎢靶材，純度 99.9%-99.99%，高密度低氧，適用于磁控濺射、半導(dǎo)體、光伏、X 射線設(shè)備，可定制平面靶、旋轉(zhuǎn)靶。
鎢靶材的優(yōu)異特性
高純度
鎢靶材通常采用 3N–4N 高純原料生產(chǎn)，純度可達(dá)99.9%–99.99%，能有效減少薄膜雜質(zhì)，提升鍍膜穩(wěn)定性，滿足半導(dǎo)體、光學(xué)等高精端行業(yè)的嚴(yán)苛要求。
高密度
鎢靶材密度約為 19.25 g/cm3，高致密度可讓濺射原子動能更高，成膜更致密、附著力更強(qiáng)，降低膜層缺陷。
低氧
高品質(zhì)鎢靶材氧含量控制嚴(yán)格：熱壓鎢靶：氧含量＜20 ppm，噴涂鎢靶：氧含量＜2000 ppm；低氧可避免高溫濺射時氧化，保證靶材使用壽命與工藝穩(wěn)定。
優(yōu)異的耐腐蝕性
鎢靶材對酸、堿、熔融金屬具有良好的耐腐蝕性，可在復(fù)雜工況與腐蝕性氣體環(huán)境中長期穩(wěn)定使用，適合特殊鍍膜場景。
鎢靶材的廣泛應(yīng)用
功能膜層
鎢膜色澤均勻、化學(xué)穩(wěn)定，常用于高端手表、醫(yī)療器械、五金配件的裝飾鍍膜；同時良好的導(dǎo)電性也使其適用于電極防護(hù)涂層。
X射線技術(shù)
鎢具有高原子序數(shù)與高熔點(diǎn)，是 X 射線管的核心靶材，能承受電子束高溫轟擊并產(chǎn)生穩(wěn)定高能 X 射線，廣泛用于醫(yī)療診斷與工業(yè)無損檢測。
半導(dǎo)體行業(yè)
在半導(dǎo)體 PVD 工藝中，鎢靶材用于制備金屬互連層與接觸插塞，低電阻率、高穩(wěn)定性使其成為先進(jìn)芯片布線的關(guān)鍵材料，提升芯片導(dǎo)電效率與可靠性。
光伏行業(yè)
鎢靶材可用于太陽能電池背電極、燃料電池雙極板涂層，作為擴(kuò)散阻擋層提升器件壽命與穩(wěn)定性，適配高溫與強(qiáng)腐蝕環(huán)境。
航空航天與核領(lǐng)域的保護(hù)層
鎢膜耐高溫、抗熱震、耐輻射，可用于航天器熱防護(hù)層、核工業(yè)屏蔽材料與聚變裝置內(nèi)壁涂層，在極端環(huán)境下保持結(jié)構(gòu)穩(wěn)定。
技術(shù)特性
高純度
99.9%-99.99%
相對密度
90%
應(yīng)用場景
X射線技術(shù)
半導(dǎo)體行業(yè)
光伏行業(yè)
航空航天與核領(lǐng)域的保護(hù)層
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