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氧化鋅靶材(ZnO)

ZnO target

眾誠達

陶瓷靶材

氧化鋅靶材(ZnO)

高純度
優(yōu)異的光學透過率
良好的導電性能

產(chǎn)品介紹

氧化鋅靶材作為高效薄膜制造的關(guān)鍵材料,廣泛應用于物理氣相沉積(PVD)過程中的薄膜制造,氧化鋅能夠提供高效且均勻的材料源,確保在基底上形成的薄膜具有優(yōu)異的質(zhì)量和一致性。氧化鋅(ZnO)是一種具有突出電學和光學性能的白色粉末。選擇氧化鋅靶材作為靶材的核心原因,主要是基于它的獨特化學穩(wěn)定性和優(yōu)良的物理特性,這些特性使得它在制造過程中能夠承受高能量的沉積環(huán)境,同時保持其化學純度和結(jié)構(gòu)完整性。


氧化鋅靶材(ZnO)的優(yōu)異特性

  • 高純度保證薄膜性能

    氧化鋅靶材純度可達 99.99% 以上,雜質(zhì)含量低,確保濺射薄膜具有優(yōu)異的電學與光學特性,滿足高端薄膜制造的嚴苛需求,是氧化鋅靶材適配高端場景的核心基礎(chǔ)。

  • 優(yōu)異的光學透過率

    氧化鋅靶材在可見光波段透光率可超過 80%,適合制備高透明度的光學膜與透明導電膜,彰顯氧化鋅靶材的光學優(yōu)勢,適配光學、顯示等領(lǐng)域的核心需求。

  • 良好的導電性能(可摻雜)

    通過 Al、Ga、B 等元素摻雜,可大幅降低氧化鋅靶材的電阻率,氧化鋅靶材是替代 ITO 透明導電膜的環(huán)保替代材料,適配綠色制造需求,拓寬其應用范圍。

  • 優(yōu)異的化學穩(wěn)定性

    氧化鋅靶材耐酸堿腐蝕,在高溫、高濕等環(huán)境中依然保持穩(wěn)定性能,延長氧化鋅靶材使用壽命,適配多場景嚴苛使用需求,降低下游企業(yè)使用成本。

氧化鋅靶材(ZnO)的廣泛應用

  1. 顯示面板

    氧化鋅靶材可用于制備高透明度和導電性能膜層(替代ITO)。憑借其優(yōu)異的光學透過率、低電阻率和化學穩(wěn)定性,氧化鋅靶材能夠提高顯示屏的亮度均勻性、響應速度及使用壽命,是顯示面板領(lǐng)域的核心材料。

  2. 光學器件制造

    氧化鋅靶材用于制造各種光電器件,如LED和激光二極管。在這些應用中,氧化鋅靶材制備的氧化鋅薄膜的光學性質(zhì)和電導率至關(guān)重要。因此,沉積條件(如溫度、氣壓、沉積速率)需要精確控制,以充分發(fā)揮氧化鋅靶材的性能優(yōu)勢。

  3. 光伏行業(yè)

    氧化鋅靶材在制造太陽能電池中也發(fā)揮著關(guān)鍵作用,可制備高透明度和導電性能膜層(替代ITO),尤其是在薄膜太陽能電池的生產(chǎn)中。在光伏應用中,氧化鋅靶材制備的氧化鋅層的透明度和導電性對于太陽能電池的效率至關(guān)重要,助力光伏行業(yè)節(jié)能增效。

技術(shù)特性

  • 純度

    純度

    99.99%

  • 相對密度

    相對密度

    98%

應用場景

  • 顯示面板

    顯示面板

  • 光學器件制造

    光學器件制造

  • 光伏行業(yè)

    光伏行業(yè)

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