產(chǎn)品中心
Product Center
名稱：鎳靶材(Ni)中文名：鎳靶材(Ni)成型工藝：真空熔煉純度：99.99%產(chǎn)品規(guī)格：平面靶材、旋轉(zhuǎn)靶材應(yīng)用場景：半導(dǎo)體制造、磁性薄膜、裝飾鍍膜、光伏行業(yè)查看詳情
名稱：銦靶材(In）中文名：銦靶材(In）成型工藝：澆鑄純度：99.99%-99.999%產(chǎn)品規(guī)格：平面靶材、旋轉(zhuǎn)靶材應(yīng)用場景：半導(dǎo)體制造、光伏行業(yè)、顯示面板、光學(xué)器件查看詳情
名稱：鉭靶材(Ta)中文名：鉭靶材(Ta)成型工藝：熔煉純度：99.99%產(chǎn)品規(guī)格：平面靶材、旋轉(zhuǎn)靶材應(yīng)用場景：半導(dǎo)體制造、光學(xué)器件制造、硬質(zhì)涂層與裝飾涂層、電子元器件查看詳情
名稱：硅靶材(Si)中文名：硅靶材(Si)成型工藝：噴涂、燒結(jié)、長晶純度：99.99%-99.999%產(chǎn)品規(guī)格：平面靶材、旋轉(zhuǎn)靶材應(yīng)用場景：光學(xué)器件制造、半導(dǎo)體制造、傳感器制造、人臉識別查看詳情
